Définit la méthode d'essai de variations rapides de température et la méthode des deux bains. Cette dernière méthode d'essai peut égale-ment être utilisée, en appliquant moins de cycles, pour déterminer l'effet de l'immersion dans des liquides chauds qui est utilisée pour le nettoyage des dispositifs. Cet essai est applicable à tous les dispositifs à semiconducteurs. Il est considéré comme destructif, sauf stipulation contraire dans la spécification applicable. Le contenu des corrigenda de janvier 2003 et d'août 2003 a été pris en considération dans cet exemplaire.