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ISO 17331:2004

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Zusammenfassung

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method. It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Produktspezifikationen

  • Standard von ISO
  • Ausgabedatum:
  • Edition: 1
  • Dokumenttyp: IS
  • Seiten
  • Herausgeber: ISO
  • Lieferant: ISO
  • ICS: 71.040.40
  • Internationales Komitee: ISO/TC 201